直流磁控溅射电源

我们的 Huyssen溅射电源采用先进的PWM脉宽调制技术，以进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，具有体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠、生产工艺严格完善等特点。

我们的系列电源产品采用先进的DSP控制系统，充分保证了镀膜过程的重复性，并具有抑制电弧放电、抗靶材短路等功能，具有优异的负载匹配能力，既保证了靶面清洗过程的稳定性，又提高了靶面清洗速度；主要参数可在较大范围内连续调节；维护方便，可靠性高；PLC接口和RS485接口扩展功能，便于实现自动化控制。

主要特点如下：

1.采用先进的电流模式开关电源技术减少输出储能元件，同时提高抑制火花和再启动的速度，在铝靶镀膜方面优势更加明显。

2. 提供恒流/恒功率模式。与传统的恒流模式相比，恒功率模式更能保证镀膜过程的重复性。

3、具有理想的电压陡降特性，并能自动识别误点火，充分满足磁控溅射工艺的连续性。

4、阴极溅射性能良好，可可靠溅射各种金属或非金属靶材。

5、可选择手动控制/模拟接口控制，可选择RS485通讯接口。

6.直流磁控溅射电源专为实验真空设备定制，相对于生产设备，为客户减少电源体积和成本

7、微秒级灭弧，彻底杜绝因打火而产生不良品的现象。

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